【本報訊】本報踢爆「銅芯抗疫口罩」並無採用政府聲稱的專利「弱磁場防污染」技術。創新及科技局昨日承認重用口罩無採用相關技術，但辯稱現時的口罩設計與得獎專利設計「同源」，其中六層防菌、可重用等設計均屬相同設計。
立法會財委會昨討論創新及科技基金注資問題，席間議員追問Cu Mask虛報專利一事。民主黨議員林卓廷認為，銅芯口罩與獲專利的「弱磁場」口罩是風馬牛不相及，質疑政府是否被生產商誤導。公民黨議員陳淑莊形容是貨不對辦，質問政府會否就事件道歉。
創新及科技局局長薛永恒辯稱，現時的口罩設計與得獎專利設計同源，曾向香港紡織及成衣研發中心（HKRITA）了解，有關專利仍適合用作口罩的基礎。
為洗60次棄用弱磁場技術
薛永恒自言作為機電工程師，無能力說明有關專利的事，但認為已有科學家確認，望公眾能支持。他解釋，政府要構思如何在疫情下盡快提供符合標準的口罩，若使用弱磁場技術，只能清洗20次至30次，因此經改良達到可清洗60次，不會因專利而不改善口罩設計。
創科局下午舉行記者會回應質詢，HKRITA行政總裁葛儀文就口罩專利解釋，政府派發的可重用口罩設計是參照日內瓦獲獎項目，兩者都有人體工學、防菌等技術，但承認銅芯口罩並無採用具專利的弱磁場防污染技術，原因是這技術「濕水（效果）唔穩定，再洗效果會差」，聲稱此改動可令原本只可重洗20次改良至可重洗60次。葛辯稱，智識產權除弱磁場防污技術外，亦包括六層防菌、可重用等設計，與銅芯口罩相同，故視為改良版較合適，又形容其設計與獲獎口罩是「父子關係」。
■記者張文鈴